上证指数本周下跌4.91%，深证成指本周下跌6.29%，创业板指数本周下跌5.69%；个股数据方面，本周区间下跌个股3017家，而本周区间上涨个股仅742家。三大指数全线下挫，个股大面积低迷。

  口罩概念股的再升科技本周累计下跌26.07%，高居沪深两市A股跌幅首位。本周区间大跌10%以上个股高达437家，跌幅前10名依次为再升科技、深中华A、红太阳、华脉科技、融捷健康、香溢融通、东方网力、双杰电气、尚荣医疗以及华升股份。

  整体上，受欧美股市恐慌行情的冲击，本周A股表现得相对较为顽强，但有仍属于十分低迷。近期炒作涨幅较大的题材股，是本周大跌的“重灾区”，如口罩概念强势股的再升科技、大湾区概念的深中华A、消毒概念的红太阳以及5G概念的华脉科技等等。

  当行情持续低迷出现的时候，炒作涨幅较大的题材股往往较容易出现砸盘。部分投资者遇到了“上涨的时候自己不在场，杀跌的时候却被逮个正着”的尴尬。不管行情是否低迷，当题材股被疯狂炒作的时候，我们都应该多保持几分清醒。

  3月16日至3月20日，沪深两市A股跌幅前30名，如下表所示。仅供参考，不作为投资建议，据此操作，风险自负！

  公司正在将业务拓展至光刻机产线整体解决方案，开展的光刻机产业化项目总投资额约8.59亿元。

  公司的光刻胶产品主要目标应用于TFT-LCD行业，产品性能满足行业应用需求

  公司为拓展经营事物的规模及产品应用领域，投资设立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化项目。

  公司将开发成膜助剂用以替代光刻胶中的致癌性物质苯乙烯，以减小硬度、脆性及褪膜颗粒，提高光刻胶分辨率。

  2019年7月19日公司在互动平台称我公司产品已经应用于OLED和芯片基材。

  公司在19年7月22日互动平台中回复：针对面板行业对光阻材料的巨大需求，公司引入韩国光阻材料供应商SMS、KISCO、DKC，国内部分客户已进入材料打样测试认证阶段，下一步公司将配合客户逐步实现量产。

  公司的光刻胶产品最重要的包含紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品，主要使用在于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。

  2019年12月27日公司在互动平台称：公司孙公司无锡澄泓生产的产品主要是光刻胶剥离液，目前主要用在液晶面板领域。

  公司是一家专门干微电子化学品的产品研制、生产和销售的高新技术企业，主流产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等

  2019年11月8日公司在互动平台称：公司参股的科华微电子是国内拥有并正常使用荷兰ASML光刻机的光刻胶公司。

  2018年公司主营业务产品仍以光刻胶专用化学品为主，分为光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂等）和光刻胶树脂两大系列。

  2019年7月26日互动平台回复公司拥有“高粘度光刻胶无胶丝匀胶装置”专利，以及子公司捷捷半导体拥有“一套光刻胶残胶收集装置”。

  2019年半年报披露：为提升公司后续的发展能力，公司加大了对 193nm 光刻胶和前驱体的研发投入力度，公司研发费用投入比去年同期增加一倍。

  公司正在自主创新和产业化的 193nm 光刻胶项目，已获得国家 02 专项“ 193nm 光刻胶及配套材料关键技术研究项目”和“ ArF 光刻胶开发和产业化项目”的正式立项，先后共获得中央财政补贴 15,101.65万元，地方配套 5,000 万元。

  公司组建了包括高级光刻胶专业人才的独立研发团队，建成 1500 平方米的研发中心和百升级光刻胶中试生产线，产品研发进展和成果得到业界专家的认可。

  目前“193nm 光刻胶及配套材料关键技术研究项目”的研发工作已经完成，正在等待验收。

  公司设立光刻胶事业部，并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ ArF 光刻胶开发和产业化项目”的落地实施。预计2019年底在宁波建成一条光刻胶生产线，项目产业化基地建设工作进展顺利。

  公司将结合 PCB 电子化工材料的开发经验，通过引进团队和自主开发，重点布局超净高纯试剂、光刻胶、IC封装材料等关键产品的研究。

  电子化学品方面：永太新材料年产1500吨CF光刻胶项目已进入了项目验收阶段。公司年产60吨OLED电子材料建设项目正在稳步推进中，继续加大在平板显示领域的布局。

  2019年3月13日公司互动平台披露博砚电子为宝通辰韬投资，该公司是一家研发、生产光阻的厂家，主要产品为彩色滤光片用光阻黑色矩阵光阻、感光间隙材料，产品广泛适用于液晶显示屏、印刷电路和集成电路以及印刷制版等。

  该公司持续技术创新战略，凭借自身雄厚的科研实力，突破本土制造的长期技术瓶颈，已经成功开发出系列光刻胶产品。

  金龙光电有限公司电容式触摸屏Sensor项目，预计项目达到一期月产300万片设计产能时经济效益靶材及光刻胶达到年值1800万元

  根据光刻胶下游应用领域不同，公司光刻胶去除剂包括集成电路制造用、晶圆级封装用、LED/OLED用等系列产品。公司产品光刻胶去除剂是用于图形化工艺光刻胶残留物去除的高端湿化学品。

  光刻胶去除剂一般由去除剂、溶剂、螯合剂、缓蚀剂等组成，其中关键是去除剂和溶剂的选择，从而获得优异的交联光刻胶聚合物的去除；

  螯合剂及缓蚀剂等添加剂提供金属及非金属基材分子级、原子级保护，并进行光刻胶残留物选择性去除。公司光刻胶去除剂的核心技术包括光阻清洗中金属防腐蚀技术、光刻胶残留物去除技术。

  公司的光刻气产品有A/F/Ne、G/e、Ar/Ne和K/任F/Ne混合气等，4种光刻气均为国内唯一供应商﹐通过全球最大的光刻机公司ASML产品认证。

  公司主要营业业务为超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等湿电子化学品的研发、生产和销售。

  产品有光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机)。

  上海普利特复合材料股份有限公司与上海诗坤股权投资管理有限公司拟共同出资设立上海普利特半导体材料有限公司（最终以工商登记部门核准的名称为准，以下简称“合资公司”）。

  合资公司注册资本为 5,000 万元整，其中普利特出资 4,500 万元，占注册资本总额的 90%；上海诗坤出资 500 万元整，占注册资本总额的 10%。

  公司于 2019 年 9 月 18 日与上海诗坤就本次对外投资相关事宜签署了《上海普利特复合材料股份有限公司与上海诗坤股权投资管理有限公司关于上海普利特半导体材料有限公司（拟）之合资协议书》。

  合资公司主营业务为对半导体光刻胶材料、新能源新材料、电子通信与显示领域新材料产业的孵化、投资、并购整合等。

  2019年5月27日智光电气在互动平台上表示，参股公司粤芯半导体采购的荷兰ASML光刻机，已于2019年3月中旬搬进粤芯半导体主厂房，目前在做量产前的最后调试准备

  公司是光机电一体化产品生产企业，所处行业属于专用仪器仪表制造业，细分类为光电测控仪器设施制造行业。

  公司具有完备的军工资质，包括《武器装备科研生产许可证》、《装备承制单位注册证书》、《武器装备科研生产单位二级保密资格证书》。

  母公司目前以军工产品业务为主，在光机电一体化设计、加工、装调、检测等方面形成较强的竞争能力，在国防光电测控领域处于同行业领先地位。

  公司从事的主体业务为光电测控仪器设施、光学材料和光栅编码器等产品的研发、生产与销售。企业主导产品为光电经纬仪光机分系统、航空/航天相机光机分系统、新型雷达天线光学玻璃等。）