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  2023年3月29日（德国时刻），为半导体光刻设备制作光学元件的卡尔蔡司半导体制作技能公司（以下简称蔡司SMT）将在其坐落德国黑森州韦茨拉尔的工厂开端建造新的光学元件工厂，以出产DUV（深紫外）光刻设备。它方案于2025年完结。

  ZEISS SMT 是德国抢先的光学设备制作商 Carl Zeiss 的子公司，为半导体光刻设备供给光学元件和光掩模体系和进程操控解决方案。光学元件供给给荷兰半导体曝光设备制作商ASML，蔡司SMT表明，“全球80%以上的微芯片都是运用咱们的光学元件制作的。”

  ZEISS SMT 的 Wetzlar 工厂现已为 DUV 光刻设备制作光学元件超越 20 年。），因为对半导体制作设备的需求正在添加，现有的制作才能已达到极限，所以蔡司唯有扩建。据介绍，新工厂的总出产面积将超越12,000平方米，将额定发明150个工作岗位。该工厂将为最新的 DUV 光刻设备制作和开发光学元件。

  该公司还于2023年3月22日宣告，将扩建坐落德国黑森州罗斯多夫的研制基地。它方案到 2026 年末出资超越 2000 万欧元。该中心专心于纳米结构研讨和开发以纳米精度修正光掩模缺点的体系。

  半导体制作技能正在刻画微电子年代。蔡司半导体制作设备能让微芯片变得更小、更强壮、更节能、更经济。

  蔡司是微芯片出产设备和模块的全球先进供货商。经过半导体制作光学体系、光掩模解决方案和工艺操控解决方案，蔡司为微芯片出产的悉数进程中的光刻、光掩模制作和失效剖析供给重要技能。计算机技能的前进在很大程度上依赖于光刻技能的继续不断的开展——每次推出的新一代技能皆可以在微型芯片上出产出更精密 的结构。这使得电路更紧凑，每年能出产出更强壮、更节能和更具本钱效益的微芯片。蔡司从一开端就一向推进半导体 制作技能的开展。蔡司新推出的极紫外（EUV）光刻技能，发明了一系列代代的具有更高集成密度和更强功能的微芯片。